Huawei und SMIC haben einen Vertrag zur Herstellung der 7-Nanometer-Lithografiechips unterzeichnet, die im Mate 60, einem der fortschrittlichsten Mobiltelefone der Marke, verwendet werden. Laut Patentdokumenten, die letzte Woche veröffentlicht wurden, müssen die Unternehmen dies jedoch tun Erweiterung seiner technologischen Fähigkeiten zur Herstellung von 5-Nanometer-Chips.
Patente wurden in einer Erklärung von veröffentlicht Bloomberg Die (22) Dokumente vom letzten Freitag deuten darauf hin, dass eine Möglichkeit zur Herstellung von Chips mit fortschrittlicherer Lithographie – einschließlich eines 5-Nanometer-Prozesses, der ältere Maschinen verwendet – für China von entscheidender Bedeutung sein könnte, das von Handelssanktionen seitens mit den Vereinigten Staaten verbündeter Länder betroffen ist.
Um dies in einen Zusammenhang zu bringen: Chinesische Hersteller werden daran gehindert, die Maschinen zu erwerben, die für die Herstellung von Chips mit fortschrittlicher Lithographie erforderlich sind. ASML, ein niederländischer Hersteller und einer der größten Hersteller von Lithografiesystemen, hat im Januar 2024 seine Lieferungen an chinesische Unternehmen eingestellt.
Dies hat Unternehmen des asiatischen Kraftwerks dazu veranlasst, Wege zu finden, ihre Halbleiter-Foundry-Prozesse mithilfe der bereits vorhandenen Maschinen zu verbessern. Damit haben Huawei und SMIC ein Patent für eine Chip-Herstellungstechnologie namens Self-Aligned Quadruple Patterning (SAQP oder „Self-Aligned Quadruple Patterning“) angemeldet.
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Bei dieser Methode werden Zeilen geschrieben Waage Silizium wird häufig verwendet, um die Transistordichte zu erhöhen, den Stromverbrauch zu senken und die Hardwareleistung zu steigern. Dieser Ansatz wird dazu beitragen, anspruchsvollere und wettbewerbsfähigere Chips in einer von DSMC, Samsung und Intel dominierten Branche herzustellen.
SiCarrier, ein von der chinesischen Regierung unterstützter Entwickler von Geräten zur Chipherstellung, der mit Huawei zusammenarbeitet, erhielt im Jahr 2023 ein Patent für diese Art der Fertigung und bestätigte damit die Pläne von SMIC, die Technologie für Lithografien der nächsten Generation zu nutzen.
Diese Methode wird es dem Hersteller ermöglichen, Maschinen für tiefes Ultraviolett (DUV) zu verwenden, um Chips mit einer Leistung von 5 Nanometern herzustellen. Experten zufolge wird China jedoch in der Lage sein, eigene Maschinen für extremes Ultraviolett (EUV) zu entwickeln – sogar noch fortschrittlichere auch in Zukunft wettbewerbsfähig sein.
Die chinesische Regierung verlängert weiterhin Kreditlinien zur Finanzierung der internen Entwicklung von 5-Nanometer-Chips. Die Hauptnutznießer sind Huawei und SMIC. Für Marktanalysten ist die Kapitalzufuhr in diese Unternehmen von wesentlicher Bedeutung, um ihnen dabei zu helfen, US-Sanktionen zu vermeiden und Selbstversorgung zu erreichen.
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